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Plasma Etching

Fundamentals and Applications

M Sugawara
Livre relié | Anglais | Semiconductor Science and Technology | n° 7
394,95 €
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Description

This book focuses on the remarkable recent advances in understanding low pressure radio frequency glow discharges. It explains the basic analytical theory, plasma physics, and plasma diagnostics, before proceeding to the details of the etching process.

Spécifications

Parties prenantes

Auteur(s) :
Editeur:

Contenu

Nombre de pages :
356
Langue:
Anglais
Collection :
Tome:
n° 7

Caractéristiques

EAN:
9780198562870
Date de parution :
30-07-98
Format:
Livre relié
Format numérique:
Genaaid
Dimensions :
156 mm x 234 mm
Poids :
680 g

Les avis