Description

Amorphe und mikrokristalline DÃ¼nnschichten zur groÃflÃ¤chigen Anwendung in der Photovoltaik oder fÃ¼r DÃ¼nnschichttransistoren in der Sensorik werden in der industriellen Praxis durch HF- bzw. VHF- und Mikrowellen-PECVD hergestellt. Der vorliegende Band der "Dresdner BeitrÃ¤ge zur Sensorik" untersucht fÃ¼r die Herstellung dieser Schichten den Magnetron-PECVD-Prozess, bei dem zur Plasmaerzeugung und -steuerung eine Magnetron-Sputterquelle, die fÃ¼r das reaktive Puls-Magnetron-Sputtern entwickelt wurde, eingesetzt wird.Durch die hohe Plasmadichte der Magnetron-Sputterquelle und dem daraus resultierenden Ausnutzungsgrad des Prekursors werden hÃ¶here Beschichtungsraten erzielt als in den industriell genutzten Prozessen. Die gepulste Energieeinspeisung bietet viele Prozessparameter um Schichteigenschaften zu beeinflussen und fÃ¼hrt zusammen mit einer schnellen Arc-Abschaltung zu einer hohen ProzessstabilitÃ¤t des PECVD-Prozesses. Durch die Charakterisierung der Schichteigenschaften und durch Prozesscharakterisierung mittels Langmuir-Sonde werden ZusammenhÃ¤nge zwischen von auÃen einstellbaren Plasmaparametern und den resultierenden Schichteigenschaften hergestellt.